پاورپوینت کامل با عنوان روش های لایه نشانی (Thin Film Deposition) برای ساخت ادوات الکترونیکی در 16 اسلاید
اساس روشهای ساخت لایه های نازک بر دو مبنای فیزیکی و شیمیایی استوار است که روش های عمده لایه نشانی، برپایه این روش ها دسته بندی می شوند. در هر روش، کیفیت و شرایط لایه نازک متفاوت است که بسته به نوع کاربرد لایه نازک و شرایط مورد نظر، روش های مختلف مورد استفاده قرار می گیرد. از کاربرد های مهم لایه های نازک می توان به استفاده از این نانوساختارها در ساخت ترانزیستورهای لایه نازک،GMR وسلول های خورشیدی اشاره کرد. جهت آنالیز و بررسی کیفیت و ضخامت لایه های نازک، روشهای طیف شناسی الکترون و یون شامل روش طیف شناسی فوتوالکترون اشعه ایکس(XPS)، الکترون اوژه(AES) و طیف شناسی جرمی یون ثانویه(SIMS) مورد استفاده قرار می گیرد. رسوبدهی فیزیکی بخار (PVD) یکی از روشهای رسوب گذاری خلاء میباشد که میتواند برای تولید فیلمهای نازک و پوششها استفاده شود. PVD با فرایندی که در آن ماده از یک فاز چگالنده به یک فاز بخار و سپس به فاز چگال نازک تبدیل میشود، مشخص میشود. شایعترین فرایندهای P ...پاورپوینت
پاورپوینت کامل با عنوان روش های لایه نشانی (Thin Film Deposition) برای ساخت ادوات الکترونیکی در 16 اسلاید
اساس روشهای ساخت لایه های نازک بر دو مبنای فیزیکی و شیمیایی استوار است که روش های عمده لایه نشانی، برپایه این روش ها دسته بندی می شوند. در هر روش، کیفیت و شرایط لایه نازک متفاوت است که بسته به نوع کاربرد لایه نازک و شرایط مورد نظر، روش های مختلف مورد استفاده قرار می گیرد. از کاربرد های مهم لایه های نازک می توان به استفاده از این نانوساختارها در ساخت ترانزیستورهای لایه نازک،GMR وسلول های خورشیدی اشاره کرد. جهت آنالیز و بررسی کیفیت و ضخامت لایه های نازک، روشهای طیف شناسی الکترون و یون شامل روش طیف شناسی فوتوالکترون اشعه ایکس(XPS)، الکترون اوژه(AES) و طیف شناسی جرمی یون ثانویه(SIMS) مورد استفاده قرار می گیرد. رسوبدهی فیزیکی بخار (PVD) یکی از روشهای رسوب گذاری خلاء میباشد که میتواند برای تولید فیلمهای نازک و پوششها استفاده شود. PVD با فرایندی که در آن ماده از یک فاز چگالنده به یک فاز بخار و سپس به فاز چگال نازک تبدیل میشود، مشخص میشود. شایعترین فرایندهای P ...پاورپوینت
اکشن زیبای ایجاد افکت هنری ترکیبی